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沈陽東創(chuàng)貴金屬材料有限公司
主營：貴金屬材料
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在所有應用產業(yè)中，半導體產業(yè)對靶材濺射薄膜的品質要求是苛刻的。如今12英寸（300衄口）的硅晶片已制造出來．而互連線的寬度卻在減小。硅片制造商對靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細晶粒，這就要求所制造的靶材具有更好的微觀結構。靶材的結晶粒子直徑和均勻性已被認為是影響薄膜沉積率的關鍵因素。另外，薄膜的純度與靶材的純度關系極大，過99.995%（4N5）純度的銅靶，或許能夠滿足半導體廠商0.35pm工藝的需求，但是卻無法滿足如今0.25um的工藝要求。
中國的貴金屬工業(yè)由于較長時期處于國家計劃經濟體制，因此發(fā)展比較緩慢，貴金屬復合材料加工技術，特別是鉑族金屬起步更是比較晚，工藝技術比較落后，國內資源更是匱乏，貴金屬復合材料報價，直到改革開放以后，以上海黃金的開業(yè)為標志，在這三十年里，才得到了迅速的發(fā)展，出現了現貨、紙黃金、紙白銀等等的交易模式，為投資者開打了通往財富的大門，更多的開辟了就業(yè)渠道，貴金屬復合材料，同時鉑族金屬的生產加工企業(yè)和流通領域的企業(yè)也似雨后春筍，蓬勃發(fā)展，貴金屬復合材料廠家，使中國成為很大的的鉑族金屬進口和消費國。
超純金屬的制備有化學提純法如精餾（特別是金屬氯化物的精餾及氫還原）、升華、溶劑萃取等和物理提純法如區(qū)熔提純等（見硅、鍺、鋁、銦）。其中以區(qū)熔提純或區(qū)熔提純與其他方法相 結合有效。
由于容器與藥劑中雜質的污染，使得到的金屬純度受到一定的限制，只有用化學方法將金屬提純到一定純度之后，再用物理方法如區(qū)熔提純，才能將金屬純度提到一個新的高度?？梢杂冒雽w材料鍺及超純金屬鋁為例說明典型的超純金屬制備及檢測的原理（見區(qū)域熔煉）。
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第8年
